液化三氟化氮化學式NF₃
，在常溫下是一種無色、無臭、性(xing)質(zhi)穩(wen)定(ding)的(de)氣(qi)體(ti)
，是(shi)一(yi)種(zhong)強(qiang)氧(yang)化(hua)劑(ji)。三(san)氟(fu)化(hua)氮(dan)在(zai)微(wei)電(dian)子(zi)工(gong)業(ye)中(zhong)作(zuo)為(wei)一(yi)種(zhong)優(you)良(liang)的(de)等(deng)離(li)子(zi)蝕(shi)刻(ke)氣(qi)體(ti)
，在(zai)離(li)子(zi)蝕(shi)刻(ke)時(shi)裂(lie)解(jie)為(wei)活(huo)性(xing)氟(fu)離(li)子(zi)
，這(zhe)些(xie)氟(fu)離(li)子(zi)對(dui)矽(gui)和(he)鎢(wu)化(hua)合(he)物(wu)，高(gao)純(chun)三(san)氟(fu)化(hua)氮(dan)具(ju)有(you)優(you)的(de)蝕(shi)刻(ke)速(su)率(lv)和(he)選(xuan)擇(ze)性(xing)（對氧化矽和矽）
，它在蝕刻時，在蝕刻物表麵不留任何殘留物
，是非常良好的清洗劑，同時在芯片製造、高能激光器方麵得到了大量的運用。